logo

Epitaksja Molekularna Źródła Gazowego: Wzrost i Właściwości III-V Heterostruktur z Zawartością Fosforu

0.00
z 0 ocen
Producent: Springer | Kod producenta: biography | Indeks: 717741
Dostępny
453.31 zł
najniższa cena z ostatnich 30 dni: 409.69 zł
Liczba sztuk:
z 30 sztuk
dodaj
do obserwowanych
od 8,99 zł
koszt dostawy
Epitaksja molekularna źródła gazowego to kluczowy temat w naukach materiałowych. Nasza książka szczegółowo omawia wzrost i właściwości heterostruktur zawierających fosfor, będących fundamentem nowoczesnych technologii w elektronice i optoelektronice.
Opis
Epitaksja Molekularna Źródła Gazowego: Wzrost i Właściwości III-V Heterostruktur z Zawartością Fosforu to pozycja, która z pewnością zafascynuje każdego, kto interesuje się nowoczesnymi technologiami materiałowymi. Książka autorstwa Morton B.B. Panish i Henryka Temkina dostarcza dogłębnej analizy i praktycznych informacji na temat mechanizmów wzrostu heterostruktur III-V, które są kluczowe dla rozwoju optoelektroniki oraz elektroniki na rynku. Heterostruktury te są podstawą dla wytwarzania innowacyjnych komponentów takich jak lasery, diody optoelektroniczne czy tranzystory. Publikacja w przystępny sposób wyjaśnia zarówno podstawowe zasady dotyczące epitaksji, jak i zaawansowane techniki stosowane w inżynierii materiałowej. Dzięki tej książce zdobędziesz nie tylko wiedzę teoretyczną, ale także praktyczne umiejętności dotyczące kontroli i charakteryzacji procesów wzrostowych.
W kolejnych rozdziałach autorzy omawiają różnorodne metody epitaksji, zwłaszcza te oparte na źródłach gazowych, które zapewniają wysoką jakość kryształów i umożliwiają precyzyjną kontrolę właściwości elektrycznych i optycznych. Czytelnicy poznają także problemy związane z transportem nośników ładunków w różnych materiałach półprzewodnikowych, co jest istotne dla dalszego rozwoju innowacyjnych aplikacji w dziedzinie elektryki i fotoniki. Książka jest skierowana do studentów, naukowców oraz inżynierów zajmujących się nauką o materiałach, a także do wszystkich zainteresowanych ich praktycznym zastosowaniem w nowoczesnej technologii. Każdy rozdział zawiera bogaty zbiór danych i wyników badań, które zachęcają do dalszego zgłębiania tematów związanych z epitaksją i charakterystyką struktur półprzewodnikowych.
Wszystko, co musisz wiedzieć o epitaksji molekularnej
Poznaj aspekty technologiczne i naukowe dotyczące epitaksji molekularnej źródła gazowego. Książka dostarcza niezbędnej wiedzy dla studentów i profesjonalistów.
Zastosowania w technologii i nauce
Dowiedz się, jak heterostruktury III-V z fosforem zmieniają oblicze nowoczesnej elektroniki i optoelektroniki, tworząc innowacyjne rozwiązania.
Praktyczne wskazówki i techniki
Zdobądź wiedzę na temat praktycznych zastosowań i technik wzrostu stosowanych w laboratoriach oraz przemyśle. Kluczowa lektura dla przyszłych inżynierów.
Epitaksja Molekularna Źródła Gazowego: Wzrost i Właściwości III-V Heterostruktur z Zawartością Fosforu to fundamentalna lektura dla każdego, kto chce zrozumieć złożoność i potencjał nowoczesnych materiałów w inżynierii materiałowej. Autorzy w przystępny sposób przedstawiają każdy aspekt procesu, od teorii po praktyczne zastosowania. Dodatkowo, książka ta jest nie tylko kompendium wiedzy, ale również inspiracją dla przyszłych pokoleń inżynierów i naukowców, którzy pragną wprowadzać innowacje w dziedzinie technologii półprzewodnikowych. Dzięki szczegółowym analizom i danym empirycznym, publikacja ta stanowi cenny zasób informacji, który może być wykorzystany w badaniach naukowych oraz w przemyśle technologicznym.
Parametry
Opinie
0.00 /5
(ilość opini: 0)
5
0
4
0
3
0
2
0
1
0
Znasz ten produkt?
Twoja opinia pomoże innym!
Pytania i odpowiedzi
Pliki do pobrania